第115章 流片暗算？（1 / 6）

东莞，伏羲微电子研发中心。

凌晨两点，巨大的地下无尘机房内只有一排排服务器运转时发出的低频蜂鸣。

梁秋坐在主控台前，手里端着一杯早已经凉透的浓茶。杯底的茶叶梗沉在水底，一如他此刻沉甸甸的心思。

屏幕上正在疯狂滚动着intel代工厂回传的掩膜版校对数据。

这是流片前最致命的一道关卡。一旦掩膜版定型上了光刻机，哪怕只是错了一根肉眼看不见的导线，几千万美元的流片费就会直接打水漂，整个伏羲一号项目也会被迫推迟至少半年。

梁秋不敢合眼。

他太清楚那些跨国巨头的手段了。

手指敲击键盘，团队自主研发的严苛自检算法全面启动。十六台顶配ibm服务器同时满载，屏幕上的数据流变成了刺眼的瀑布。

突然，主机音箱里传出一声短促的警报。

滴。

屏幕右下角，代表l4金属层的一个微小区块被系统强行标记为刺眼的红色。

梁秋猛地凑近屏幕，握着鼠标的手背青筋暴起。他不断滚动滚轮，将那个红色区块放大，再放大。

直到图像放大到纳米级别，一处极不自然的走线偏移赫然出现在眼前。

两条本该平行的微缩供电电路，在拐角处出现了仅仅三纳米的交叉重合。

三纳米。

在拥挤着几十亿个晶体管的庞大阵列中，这连太平洋里的一粒沙子都算不上。如果用常规的商业检测软件，这种误差会被当做制程冗余直接忽略。

但这三纳米的重合点，偏偏卡在cpu大核心的供电主干道上。

一旦芯片投入量产，在用户日常使用时根本查不出毛病。可只要运行高负荷的大型应用，供电网络就会发生极其隐蔽的物理短路。芯片不会烧毁，但会导致手机频繁死机、重启。

好狠的手段。